第652章 科普
与国际先进水平五纳米相比，我们到底差多少？”
“一、制造工艺国外最先进的光刻机技术已经达到五纳米的制成，而国产光刻机制造工艺还在90纳米阶段。90纳米工艺在2006年就已开始使用的，在这个工艺中，台积电采用了近锐式光刻技术，并成功制造出了全功能的90纳米芯片，国内九十纳米光刻机制造技术这一项就已落后十多年以上。”
听着以上数据差距，一众二少目瞪口呆的同时也有些气愤和难以接受。
“这什么破视频啊，介绍的是不是真的啊？我怎么感觉有点贬低我们国家的意思呢？”
“就是啊咱们国家的科技那么发达，听说航母都要下水了，差距能有这么大吗？”
“以前那么穷的时候咱们都能造原子弹，我就不信了，现在的科学技术咱们会比别人落后那么多。”
众人七嘴八舌，从一定程度上也反映出了大家在光刻机技术的认知上的差距。
很多人盲目自信，以为华夏天下无敌，其实在某些技术上面，我们和西方发达国家的差距还是有的。
就比如医疗行业，很多设备其实都需要从国外进口，只是很多人并不知道罢了。
“别说话，好好听。”陈有朋看了众人一眼，其余人赶紧闭嘴！
电脑里视频还在继续播放。
“二、光刻精度，国外最先进的光刻机可以实现一纳米以内的精度，而中国目前可以达到的精度仅为三纳米左右。国际上精度首次达到3m米是在2002年。这一年，芬兰赫尔辛基大学的科学家研制出一台专门用于制造微电子元件的设备。这一项中国技术落后了20年。”
听着这一段的介绍，一群二少，你看看我，我看看你，还是很不服气，但这一次并没有出声说话。
陈有朋按了鼠标继续。
“三、光源技术，国外最先进的光刻机使用的是极紫外光、uv和红外x射线，而中国目前主要使用深紫外光和红外光。而国际上光刻机首次使用深外光和红外光是在1965年。在这个年份，英国的科学家开始研究射子外观、深紫外线和红外光在光刻中分离，这为现代光刻技术的发展打下了基础。”